一、概論 X 射線(xiàn)熒光光譜法是一個(gè)相對(duì)分析方法,任何制樣過(guò)程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性;用于制作校準(zhǔn)曲線(xiàn)的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品必須經(jīng)過(guò)同樣的制樣處理過(guò)程。
X 射線(xiàn)熒光實(shí)際上又是一個(gè)表面分析方法,激發(fā)只發(fā)生在試樣的淺表面,必須注意分析面相對(duì)于整個(gè)樣品是否有代表性。此外,樣品的平均粒度和粒度分布是否有變化,樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等。樣品制備過(guò)程由于經(jīng)過(guò)多步驟操作,還必須防止樣品的損失和沾污。